講義内容:
1.角村 貴昭(東京エレクトロン)
進化する半導体と半導体製造装置メーカーの役割
2. 牧山剛三, 八木英樹(住友電工)
AI基盤技術向け化合物半導体デバイス
3. Dongwon Kim(サムスン電子)
The Inflection Point in Advanced Logic Technology: The Journey from Planar FETs to GAAFETs and Future Innovations
4. 高橋 信義(タワー パートナーズ セミコンダクター)
アナログファンドリー事業と技術開発
5. 内田 建(東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻)
低温CMOSのデバイス物理と応用
6. 伊藤 裕之(Applied Materials)
デバイスの進化を可能にするイオン注入技術
7. 安原 隆太郎(TSMC)
半導体3D実装のための先端パッケージ技術
8. Kai Zhao(日本IBM)
Semiconductor CMOS technology today and tomorrow, challenges and opportunities
9. 梅林 拓(ソニー)
メモリのデバイス動作概要
10. 齋藤真澄(キオクシア)
3D不揮発メモリの主要デバイス技術と課題
11. 上野和紀(東京大学大学院総合文化研究科広域科学専攻)
酸化物半導体と強相関酸化物デバイス
12. 竹中充(東京大学大学院工学系研究科電気系工学専攻)
シリコンフォトニクス最新動向
13. 山本 倫久(東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻)
半導体量子情報デバイス